2025-09-11 13:25:07 林昕潔 發佈
銳澤(7703)今(11)日舉行記者會，於SEMICON Taiwan 2025 國際半導體展上，展出兩項最新設備「肘管集塵裝置ECD (Elbow Capture Device)」與「粉體捕捉器PCD (Powder Capture Device)」，專為應對半導體製程Sub-Fab端，長期存在的粉塵堆積與管道堵塞問題，有望大幅提高製程良率，降低非預期的停機風險，目前，公司正積極與客戶進行送樣階段。

銳澤的「肘管集塵裝置ECD」，巧妙設計於Dry pump出口處，透過特殊的位移是換管機制，結合集塵與清潔功能，並可在無需停機的情況下，進行管件更換及清潔，可縮短過往清管所需的非生產時間，並且以機械方式清理，無須耗費水氣資源，降低相關成本。

此外，銳澤亦推出具高效能的「粉體捕捉器PCD」，旨在解決SubFab端管道粉塵堵塞，導致無預警當機的問題，以及現有灑水式Local Scrubber對於先進製程中PM 2.5以下微細顆粒去除效率不佳的問題，隨著半導體製程線寬不斷縮小，對微粒控制的要求日益嚴苛，傳統的粉塵處理方式已無法滿足先進製程的需求，且銳澤粉體捕捉器採用了創新的「主動式氣旋分離」技術，能有效捕捉粉塵，避免其堆積於管壁，從根本解決粉塵堵塞的難題。

(圖片來源:資料庫)