2024-09-27 09:50:25 記者 蔡承啟 報導
Canon採用「奈米壓印(Nano-imprint Lithography；NIL)」技術的微影設備首度進行出貨、對象為美國半導體聯盟「Texas Institute for Electronics(TIE)」。NIL微影設備可用來生產5奈米(nm)晶片，且經過改良、將可進一步用來生產2奈米晶片。而Canon表示，目標3-5年內、每年賣出十幾台。
Canon 26日發布新聞稿宣布，採用「NIL」技術、可用低成本製造高性能先進晶片的微影設備「FPA-1200NZ2C(見圖)」將在當日出貨給位於美國德州的半導體聯盟「TIE」。此為Canon宣布在2023年10月開始販售NIL微影設備後、首度進行出貨。
TIE設立於2021年、是由德州大學奧斯丁分校支援成立的半導體聯盟，由德州當地政府、半導體企業、國立研究所等所組成，而TIE將使用NIL微影設備研發、試產先進半導體。
據Canon指出，NIL微影設備可用來生產5奈米邏輯晶片，且經由改良、期待可進一步用來生產2奈米產品。
日經新聞報導，Canon光學設備事業本部副本部長岩本和德26日受訪表示，「目標在3-5年內、每年賣出十幾台」。
有別於現行的微影設備須藉由曝光、將電路圖案燒在晶圓上，NIL技術則是可像印章一樣、直接將圖案壓印在晶圓上，因可一次性就形成電路，縮短製程時間、更省電。Canon在10年前就和日本光罩廠大日本印刷(DNP)、鎧俠(當時為東芝)攜手研發NIL技術。
Canon執行長御手洗富士夫2023年11月接受外媒採訪時表示，最新NIL技術讓小型半導體廠也有機會生產目前幾乎全由大企業寡占的先進晶片。他說，「機台售價將比艾司摩爾(ASML)的極紫外光(EUV)微影設備少一位數(one digit less)」。
御手洗表示，NIL設備需要的電力只要EUV機台的1/10；雖然NIL應該難以取代EUV，但相信這能創造新的機會和需求，已有許多客戶前來洽詢。
Canon 7月25日公布財報新聞稿指出，因生成式AI投資旺盛、推升半導體微影設備預估將持續呈現高速成長，因此今年度(2024年1-12月)合併營收目標自原先預估的4.35兆日圓上修至4.6兆日圓、將年增10.0%，年營收將超越2007年度(4.48兆日圓)、創下歷史新高紀錄；合併營益自原先預估的4,350億日圓上修至4,650億日圓、將年增23.9%；合併純益目標自3,050億日圓上修至3,350億日圓、將年增26.6%。
Canon預估今年度半導體微影設備銷售量將為244台、將較上年度(187台)大增3成。
(圖片來源：Canon)
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