2026/09/01 22:03

〔財經頻道／綜合報導〕彭博1日報導，瑞銀集團分析師預測，中國不太可能在未來十年內快速提升其半導體製造能力，從而開發出可以取代艾斯摩爾（ASML Holding NV）尖端極紫外技術（EUV）的可行方案。
以Francois-Xavier Bouvignies為首的瑞銀分析師在一份報告中寫道：「他們（中國）似乎處於與2004年的ASML類似的階段」。
去（2025）年12月，路透調查發現，在深圳一座高度戒備的實驗室內，中國科學家已打造出多年來華府極力阻擋的技術成果，即一台可望生產先進晶片的原型機。2名知情人士透露，中國透過逆向工程仿製ASML的極紫外曝光機（EUV）。
當時消息人士形容，這項計畫堪稱中國版「曼哈頓計畫」（Manhattan Project）；「其目標是讓中國能由中國製造的設備生產先進晶片。中國希望把美國完全排除在供應鏈之外。」
目前，ASML的EUV系統僅供應給美國盟友，包括台灣、南韓與日本。美國自2018年開始要求荷蘭阻止ASML對中國出售極紫外；2022年拜登政府更擴大出口管制，全面切斷中國取得先進半導體技術的管道。