2026/07/11 17:01  

〔財經頻道／綜合報導〕韓媒報導，半導體產業的水資源競爭已進入新階段。隨著生產擴張和製程升級，用水量迅速增長，如何有效利用廢水已成為關鍵的競爭優勢，而不僅僅是獲取大量用水。韓媒指出，三星、SK海力士水資源再利用率仍徘徊4成左右，台積電卻已突破8成，甚至能在美國沙漠蓋晶圓廠。
韓媒asiae報導，半導體是典型的高耗水產業。根據英國市調機構IDTechEx統計，2024年全球半導體生產耗水量已超過9億噸，預估2035年將突破20億噸，較目前增加逾1倍。
三星電子最新永續報告顯示，旗下半導體事業（DS）2025年的年用水量達1億7901萬噸；SK海力士南韓廠區則使用8350萬噸水，兩家公司合計用水量達2億6251萬噸，較2018年增加約33%，創下歷史新高。
報導指出，半導體製造過程需要大量超純水（UPW）清洗晶圓、去除微粒及化學殘留物，因此隨著先進製程與產能持續擴充，用水需求也同步攀升。
為降低對新水源的依賴，三星與SK海力士近年積極提高廢水回收再利用。SK海力士2025年水資源再利用率已由44%提升至47%；三星雖未公布再利用率，但市場推估約落在40%左右。
然而，相較之下，台積電表現仍遙遙領先。根據台積電永續報告，2024年水資源再利用率達88.1%，2023年更一度突破90%，透過高階淨水系統，將製程廢水重新處理成超純水，在廠內持續循環使用。
報導指出，正因具備高效率的水循環能力，台積電甚至能在美國亞利桑那州鳳凰城等缺水地區興建大型晶圓廠，展現其水資源管理優勢。
不過，業界也指出，提高再利用率並不容易，將廢水重新淨化成符合半導體製程需求的超純水，不僅需要高度技術，更涉及龐大設備投資；若處理過程混入極微量雜質，還可能影響先進製程良率。因此，在AI帶動晶片需求持續攀升下，「誰能把水重複利用到極致」，正逐漸成為半導體產業新的競爭關鍵。