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國際產經:Rapidus追加採購EUV曝光機,日本政府傳擬出資千億日圓
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來源:
財經刊物
發佈於 2024-12-27 14:27
國際產經:Rapidus追加採購EUV曝光機,日本政府傳擬出資千億日圓
財訊新聞 2024/12/27 14:23
【財訊快報/劉敏夫】外電引述日本共同社的報導指出,日本政府據稱計劃在2025年下半年,向目標量產下一代半導體的Rapidus公司出資1000億日圓。
報導指出,民間的現有股東和新股東的資本參與預計合計達到1000億日圓左右,政府將進行同等規模的出資。Rapidus計劃將此用作追加購買2027年開始量產所需的極紫外線(EUV)光刻裝置等的資金。
日本政府還曾討論出資約2000億日圓,因此有可能追加出資。
日本政府計劃到2030年度,向包括Rapidus在內的半導體相關企業的研發和設備投資投入超過10兆日圓。
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