挑戰ASML！ 美國擬砸8.25億 打造EUV研發中心
2024/11/04 17:22 東森財經新聞 記者張琬聆

不讓ASML的設備專美於前，也為降低半導體技術的對外依賴，美國商務部近日宣布，美國政府將支助價值8.25億美元（約262億元新台幣）的EUV（極紫外線加速器）設備，於紐約阿爾巴尼奈米科技綜合園區（Albany NanoTech Complex）打造第一個「為美國晶片而生（CHIPS for America）」計畫的研發旗艦中心，將專注於發展最新進的EUV技術，以及降低對外國該技術研發的依賴。
EUV設備對於製造更小、更快、更有效率的晶片相當重要，將專注開發最先進的高數值孔徑EUV（High-NA EUV）研發，目前EUV曝光技術已達到7奈米以下電晶體大量生產的關鍵技術，包括台積電等主要晶片製造商都採取相關技術，美國商務部指出，將可擴大美國的技術領先地位、減少原型開發時間成本，以及建立和維持半導體人才生態系統。

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「透過這個首座研發旗艦中心，「CHIPS for America」正在向國家半導體技術中心（NSTC）提供尖端研究與工具，可確保美國在半導體創新和研發保持全球領先地位的重要里程碑」，美國商務部部長Gina Raimondo說明，強調《晶片法案》的研發部分對國家長期安全至關重要，可確保美國仍然是地球上最具技術競爭力的國家。
該技術中心計畫明年開始營運，預計到2026年底提供尖端EUV光刻機。美國商務部指出，政府投資8.25億美元的研發中心，以開發下一代EUV製程技術，直接與ASML競爭。
（封面圖／翻攝Albany NanoTech Complex官網）