2024/09/28 10:07  
佳能2023年10月宣布開賣「FPA-1200NZ2C」這款採用奈米壓印微影技術的設備。（圖擷取自佳能官網）
林浥樺／核稿編輯
〔財經頻道／綜合報導〕日本企業佳能（Canon）在2023年10月發表了採用奈米壓印微影 （NIL）技術的設備「FPA-1200NZ2C」，該設備可用來生產5奈米晶片，經過改良後甚至能生產2奈米。最新消息顯示，FPA-1200NZ2C已經首度進行出貨，買家則是位於美國德州的機構「德州電子研究所」（Texas Institute for Electronics，TIE）。
佳能在週四（26日）的新聞稿中，指出TIE在2021年成立，得到了德州大學奧斯汀分校的支援，並由德州和地方政府、半導體企業、國家研究機構等組成，未來TIE將使用NIL設備研發、試產先進半導體。
微影是半導體元件製造製程中的重要步驟，NIL是透過電子束在光罩上刻下圖案，然後壓印在已塗滿光阻的矽晶圓上，進而產生圖案，原理類似製作糕餅時，利用木頭模具在糕餅上壓印出花紋，相比目前先進製程使用的極紫外光微影（EUV）技術，NIL的製程更簡單且成本更低。
根據佳能說法，NIL設備的耗電量，只有EUV的10分之1，售價也相對便宜。