財訊新聞 　 2025/01/17 11:37

【財訊快報／記者張家瑋報導】半導體特殊化學品族群再添生力軍，新應材(4749)於今日正式上櫃掛牌。董事長詹文雄表示，配合晶圓代工大客戶在先進製程推進，截至去年底，新應材資本支出已超過30億元，預計今2025年底，更進一步突破40億元，研發費用也從12億元增加至15億元，未來將盡力追趕上外商半導體關鍵材料大廠，成為台灣第一家把光阻劑量產開發出來的公司。

回首過去20年篳路藍縷歷程，他指出，新應材轉型過程中展現了高度的專業，當初資本額僅5億元，為了配合大客戶製程便投資14億元，新應材對客戶及股東承諾，技術研發持續創新前進、未來會持續的成長、並持續投資台灣。

新應材初期專注於顯示器光阻材料，是台灣顯示器正型光阻的領導廠商。2014年開始將CIS影像感測器光阻導入半導體光學元件客戶，開啟轉型之路。目前核心競爭力在於其微影製程週邊材料，為半導體先進製程提升良率的重要關鍵，包括：表面改質劑(Rinse)、洗邊劑(EBR)、底部抗反射層(BARC)和清洗劑(Cleaner)等。2024年半導體營收占比78%，法人預估2025年在面板比重降低，而半導體微影製程週邊材料出貨增加之下，營收比重將一舉突破80%。

新應材未來將持續朝奈米級微影特化材料發展，包含即將到來之2奈米，及未來1.4奈米製程之關鍵材料，可有效提升先進微影製程終端應用之良率。半導體特化材料開發及驗證時間長，新應材以四大關鍵競爭優勢，從配方開發向上整合自建原料合成能力、建立本土材料供應鏈策略聯盟、快速回應及高學習曲線、優異的品質控管及自主設計製程技術，已搶佔與國際材料大廠競爭之有利位置。

法人指出，新應材自2019年開始穩定供貨半導體大廠後，營收逐年成長，3奈米製程中已有多項產品導入量產，預計2025年將持續受惠於3奈米製程的需求增加。另外，隨著護國神山2奈米即將於2025下半年開始量產，新應材的洗邊劑和底部抗反射層已打入2奈米供應鏈，將成為下一階段營收成長的重要動能。