國際產業》時報編譯柯婉琇綜合外電報導】台積電高層周二重申台積電「A16」先進製程節點不一定需要使用艾司摩爾（ASML）下一代先進晶片製造設備「高數值孔徑極紫外光曝光機」（High-NA EUV）。 台積電4月底在加州聖塔克拉拉（Santa Clara）的一場活動上宣布其「A16」新製程將於2026年下半年投產。　High-NA極紫外光曝光機有助使晶片設計縮小多達三分之二，但價格昂貴許多，晶片製造商必須在其優點和成本增加之間權衡得失，同時也必須考量艾司摩爾較成熟的技術是否已經夠用且更為可靠。　台積電業務發展資深副總裁張曉強（Kevin Zhang）周二在阿姆斯特丹的會議上表示，台積電A16製程的工廠可能設計為可引進High-NA極紫外光曝光機，但這還不確定，「我喜歡這項技術，但我不喜歡這個價格」，「艾司摩爾的新技術何時投入使用，我認為這將取決於最佳經濟效益為在何處，以及我們能達成的技術平衡」。　據外媒報導，每套High-NA極紫外光曝光機要價超過3.5億歐元（約3.78億美元），遠高於艾司摩爾常規型EUV機器的2億歐元。　台積電是艾司摩爾常規型EUV設備的最大用戶。　張曉強4月底在加州就曾透露台積電不認為需要使用艾司摩爾新的High-NA極紫外光曝光機來打造A16晶片。　英特爾日前宣布將成為第一家使用此款尖端設備的公司，用來來打造自家的14A晶片。