秦 宛萱
2026年7月28日週二 上午10:58

中國量產DUV撼動ASML護城河？小摩喊「過度反應」　陸行之曝長線隱憂

外媒披露，中國一家具官方背景的企業已著手量產自主研發的浸潤式深紫外光（DUV）曝光機，消息一出艾司摩爾（ASML）股價應聲下跌，一度重挫逾8%，收盤時下跌5.80%。
面對市場的恐慌拋售，摩根大通分析師直言市場「過度反應」；知名半導體分析師陸行之則剖析，短期內雖難以撼動ASML地位，但長線的「國產替代」效應仍是隱憂。
中國首批國產DUV投產　長鑫存儲、中芯入列採購名單
據外媒《The Information》報導，一家總部位於上海的中國國企（整合了上海宇量昇科技等團隊），已經開始量產國產DUV設備。這項設備主要採用本土零組件，僅少數關鍵零件仰賴日本進口。
在產能規劃上，該企業預計今年將生產約5台DUV，並在2027年將產能提升至約20台。這批設備的初步交付對象將是中國領先的晶片製造商，包括中芯國際、華虹半導體，以及近期剛掛牌上市且股價大漲的記憶體大廠長鑫存儲。

在技術規格方面，這款ArF 193nm浸潤式DUV曝光機，單次曝光主力用於45奈米至28奈米等成熟製程，若透過成本與良率代價極高的多重曝光技術，甚至能極限推進至7奈米或5奈米製程。
市場恐慌引發ASML股價大跌　小摩分析師：明顯過度反應
中國成功突破DUV量產關卡的消息，引發了全球半導體設備股的集體賣壓。ASML股價一度重挫逾8%，並連帶拖累科磊（KLA）、科林研發（Lam Research）與應用材料等美國設備大廠齊跌。
針對此波拋售潮，摩根大通分析師迪斯凡德（Sandeep Deshpande）出具報告指出，ASML的股價下跌「顯然不成比例」，屬於市場情緒驅動的過度反應。
迪斯凡德強調，中國多年來一直在生產較低階的曝光設備，但至今從未對ASML在前端晶圓製造設備市場的市占率造成實質影響。他認為，ASML在技術能力與量產規模上，依然與中國競爭對手保持著顯著的領先優勢。
從產能數據來看，ASML每年具備生產130台DUV設備的龐大產能，且計畫在2027年擴產30%，遠非中國廠商年產5到20台的規模所能比擬。此外，ASML近期已大幅降低對中國市場的依賴，中國占其營收比重已從2024年的41%，驟降至今年第二季的14%。
短期衝擊有限　陸行之示警：長線「國產替代」隱憂浮現
知名半導體分析師陸行之認為，以中國自研DUV初期的產能，對比ASML明後兩年高達169台與220台的預估出貨量，短期內對ASML的衝擊確實很小，且中國設備在量產時程上，仍可能面臨良率不穩定的延遲風險。
然而，陸行之提醒，中國客戶在無法取得ASML高階浸潤式DUV的情況下，勢必會加速轉換使用國產機台，將影響到ASML原本享有高利潤的「安裝基底服務」（Installed baxse Management）營收。
從長線角度來看，ASML目前壟斷了全球近99%的浸沒式DUV市場。陸行之警告，一旦這些中國國產設備在良率與穩定度上，成功通過中芯等晶圓代工廠的驗證，ASML在中國這個營收第三大市場，將面臨成熟製程設備市占率被永久「國產替代」的風險。