個股：ASML全球首台High-NA EUV曝光機出貨英特爾，家登(3680)成最大受惠者
2023/12/22 11:05 財訊快報／記者李純君報導
微影設備大廠艾司摩爾（ASML）在社群媒體X中宣布，經過長達十年的研發及技術推進，全球第一台High-NA EUV曝光機正式出貨給英特爾。法人預期英特爾會在20A製程導入，EUV Pod大單可望由家登(3680)拿下。
受惠於AI處理器的強勁需求，半導體先進製程仍是台積電(2330)、英特爾、三星等大廠明年投資重點，其中，三大廠將會在明年擴大3奈米EUV產能，並加快進入2奈米製程世代。業者預期，2025年邏輯製程微縮至20埃米（2奈米），高數值孔徑（High-NA）EUV曝光機會是最重要設備，每小時晶圓產出可望維持在220片。
艾司摩爾日前於投資人會議中宣布EUV曝光機擴產計畫，2025～2026年低數值孔徑（Low-NA）EUV機台年產能將提高至90台，高數值孔徑（High-NA）EUV機台年產能將在2027～2028年擴增至20台。其中，英特爾、台積電、三星等大廠均已下單採購。
英特爾明年將開始在Intel 20A製程採用High-NA EUV曝光機，家登成為最大受惠者。法人指出，新一代EUV Pod升級認證家登陸續完成，且ASP較前代提高10～20%，對營收及獲利都有明顯貢獻。再者，2023年製程進入3奈米之後，每片晶圓平均EUV光罩層約將倍增達20層，2奈米後將達30層以上，將會帶動EUV Pod需求明顯增加，以家登約八成市占率來看，明年營收將續創歷史新高。