荷蘭跟進美國 今夏端出晶片技術出口管制
工商時報呂佳恩、蘇崇愷 2023.03.09
荷蘭將會推出新的限制措施來管制半導體技術出口。圖／美聯社

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美中晶片戰持續升溫，美國積極拉攏夥伴圍堵中國。外媒8日報導，荷蘭貿易部已去信通知國會，為了維護國家安全，將會推出新的限制措施來管制半導體技術出口。
美國為拖慢中國的半導體製造能力以及軍事科技發展，於去年10月祭出晶片出口管制措施，不過若要發揮更大效用，仍需握有晶片關鍵技術的荷蘭和日本加入其行列，因此美國數個月來持續與荷蘭及日本商討此事。
據路透社報導，荷蘭貿易部長施萊納馬赫（Liesje Schreinemacher）已於8日去信國會議員，她在信中表示，政府計劃針對沉浸式DUV深紫外光微影系統的出口祭出限制，預料會在今年夏季前公布相關細節。
施萊納馬赫在信中談到，荷蘭政府認為有必要以國家安全為由，以最快的速度對技術進行監管，因此內閣將會推出一份國家管制清單，並點名DUV光刻技術將會是受影響的技術之一。
此外，她也在信中寫道，荷蘭政府已決定採取「盡可能謹慎且準確的措施」，以避免對供應鏈造成不必要的破壞，並強調企業必須了解他們所面臨的問題，並且花時間適應新規則。
信中並未提及受影響的貿易夥伴，亦未提到任何企業，不過外界預期荷蘭半導體設備大廠艾司摩爾（ASML）將會受到最大影響。由於美國祭出禁令，艾司摩爾自2018年起便無法向中國出口EUV極紫外光微影設備。不過，荷蘭政府最新的計畫欲將上一代的DUV微影設備也列入管制。
艾司摩爾對此回應道，他們預料之後必須申請許可證方能出口其DUV設備，不過由於管制措施要轉化為立法並且生效仍需時間，因此認為新措施並不會影響其2023年的財務展望，預估2023年在中國的銷售額將維持在22億歐元左右。
（工商時報　呂佳恩）
荷蘭擬限制向中國出口DUV曝光機 呼籲歐盟跟進
荷蘭將進一步禁止向中國出口先進晶片設備，預計2023年夏季前實施，以確保國家安全。荷方也主張歐盟成員國採取一致政策，以展現歐盟團結。
香港明報報導，荷蘭外貿部長施賴內馬赫（Liesje Schreinemacher）8日發給國會的信函顯示，荷蘭政府擬提議限制浸沒式DUV曝光機的出口。該類產品是生產全球最先進晶片的關鍵，是較極紫外曝光低一檔的產品。
信中未提及任何企業，但表示將會管制的技術是DUV曝光技術，這是荷蘭曝光機公司艾司摩爾（ASML）目前對外出售的第二先進的晶片設備。賴內馬赫在信中指出，荷蘭認為基於國家和國際安全的理由，有必要盡早控制這項技術。
艾司摩爾8日聲明指出 ，這些措施將「不會對2023年或更長時期的財務展望產生重大影響」。但該公司表示，其最先進的DUV系統需要申請出口許可。「重要的是要考慮到額外的出口管制並不適用於所有浸沒式曝光工具，而是只針對『最先進的』工具」。艾司摩爾表示，尚未就所謂「最先進」的確切定義獲得指導意見。
（工商時報　蘇崇愷）