2024/08/10 17:57  
今年第2季，艾司摩爾對中國出貨量佔其全球銷售近半。（路透資料照）
〔編譯魏國金／台北報導〕南華早報報導，美國限制中國取得先進晶片與技術的出口管制，加劇推動中國取代外國晶片製造設備的努力，不過，業界人士與分析師表示，中國在相關領域仍面臨瓶頸（choke point）。
報導說，北方華創、中微半導體等中國半導體晶片設備商帶頭推動晶片代工廠使用本國設備。多名業界人士透露，中國半導體晶圓廠的一條不成文規定稱，本國製造的工具應佔其生產線70%。
中國一些業界資深人士談到自主性時越來越有信心。中微半導體創辦人兼執行長尹志堯說，中國可望今年夏季達到晶片生產設備的基本自主水準，這是在幾年前無法想像的事。
他指出，儘管在品質與可靠性方面仍存在差距，但中國半導體供應鏈是可以達到自主性的，而這是美國管制或許加快中國晶片產業發展的最新證據。
報導說，儘管如此，中國仍在一個領域被卡脖子：曝光技術，這是受到最嚴格出口管制的項目。荷蘭公司艾司摩爾（ASML）是生產先進晶片所需的極紫外光機（EUV）唯一供應商，也是成熟製程晶片所需的深紫外光機（DUV）主要供應商。
中國晶圓廠華潤微電子總裁李虹表示，2023年中國晶圓代工廠使用的曝光機設備僅1.2%是向本國廠商採購。
今年第2季，艾司摩爾對中國客戶的出貨總額達到23.5億歐元，占其全球銷售近半，顯示中國在不受美國制裁的傳統晶片領域上，仍持續依賴艾司摩爾的設備。
美國顧問公司歐布萊特石橋集團中國部副總裁崔歐洛（Paul Triolo）表示，中國企業大量向艾司摩爾採購DUV曝光設備，顯示在可靠生產用於28奈米以及以下製程的曝光設備上，中國曝光機巨頭上海微電子集團仍落後艾司摩爾。
不過，曝光技術不是中國面臨的唯一瓶頸。華潤微電子的李虹說，離子植入（ion implantation）以及檢驗與量測系統的在地供應率分別僅1.4%與2.4%。中國海關數據顯示，2003年中國進口的離子植入系統年增20%至13億美元。
國海證券一份研究報告顯示，中國的晶圓廠依賴科磊（KLA）、應用材料以及日本日立公司的量測系統，其中科磊佔全球檢驗與量測設備市占率50%。中國一名業界人士說，「檢驗與量測部門的在地供應比例較低，國產替代基本上發生在低端產品」。