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聯電砸80億美元南科擴廠,攻28奈米以下製程
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發達公告
yoyo
發達集團監察人
來源:
財經刊物
發佈於 2012-05-24 11:39
聯電砸80億美元南科擴廠,攻28奈米以下製程
聯電(2303)南科擴廠,今早舉辦動土典禮;聯電Fab 12A第5、6期廠房預計新增投資80億美元,專攻28奈米以下製程,月產能估新增12吋晶圓5萬片。
繼台積電南科14廠第5期於上個月動土、預計將導入20奈米產能;聯電(2303)Fab 12A第5、6期廠房的動土典禮於今(24日)在南科舉行。
聯電董事長洪嘉聰指出,Fab 12A第5、6期廠房將再投入80億美元支出,專攻28、20、14奈米製程生產,預計在明年下半年進行機台移入。Fab 12A第1-4期廠房預計資本支出約80億美元,預計新建的第5、6期廠房投資將達到同樣金額。
聯電目前有一座6吋晶圓、7座8吋晶圓和2座12吋晶圓廠,其中,12吋晶圓廠分別為位於新加坡的Fab 12i和位於南科的Fab 12A。
聯電是於1999年11月進駐南科,興建在台灣的第一座12吋晶圓廠Fab 12A。聯電Fab 12A在增加第5、6期廠房之後,潔淨室總面積將達5萬3千平方公尺,相當於10座美式足球場大小,增加超過2600個工作機會,最大規劃月產能將從8萬片提升至13萬片,加上規劃中的第7、8期廠房,Fab 12A總計月產能將達18萬片。
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