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ste 發達集團副總裁
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來源:財經刊物
發佈於 2015-05-19 21:45
聯電安謀深化合作 矽智財有進展
晶圓代工二哥聯電(2303)及處理器矽智財(IP)廠英商安謀(ARM)深度合作,雙方昨(18)日共同宣布ARM Artisan實體矽智財(PHY IP)解決方案的新進展,加速以ARM處理器為核心的嵌入式系統和物聯網相關應用蓬勃發展。
聯電55奈米超低功耗製程(55ULP)技術已成為低耗能物聯網應用的最佳解決方案,新推出的實體IP產品將有助於晶片設計團隊,加速並簡化為物聯網和其他嵌入式系統開發ARM系統單晶片(SoC)。
對許多講求低耗電的應用而言,盡可能最大化電池使用壽命是成功設計的關鍵。Artisan實體IP平台將強化聯電的ULP技術,最大化電源效率和降低漏電功耗,主要功能如支援厚閘極氧化層(thick gate oxide)和多通道長元件庫,讓SoC工程師能運用各種工具實現物聯網應用的最佳化設計。
ARM實體IP設計事業部總經理Will Abbey指出,完整的實體IP基礎平台對聯電55ULP製程實現物聯網應用低功耗和低成本設計至關重要。針對低功耗所需的最佳化元件庫,ARM和聯電提供SoC工程師一套完善的全新開發工具。
聯電矽智財研發暨設計支援處資深處長林世欽表示,物聯網晶片工程師經常被要求以更快的速度,設計出更省電的高度整合解決方案。聯電擁有晶圓專工產業最強大的物聯網專用55奈米技術平台,全面且完整的IP資源可以滿足物聯網產品永遠連線且超低耗電的要求。
在聯電55ULP平台納入Artisan實體IP之後,可立即增加工具選項,有助於降低設計的複雜度並且加速上市時程。
聯電55ULP實體IP即日起於ARM DesignStart網站供貨,其中的Artisan元件庫將支援0.9v超低電壓範圍,和1.2v電壓範圍操作相比,最高可節省44%動態電力和25%漏電功耗。
此外,該元件庫的多通道元件庫提供各種臨界電壓(Vt)選項,可讓SoC工程師在漏電功耗和效能之間有多種組合選擇。長通道元件庫可進一步降低高達80%的漏電,電源管理工具組(PMK)可減少動態電力和漏電的損失。
至於次世代高密度記憶體編譯器,則可提供多重電力整合模式,在極小化待機漏電功耗時保留存儲狀態。運用這些模式,SoC工程師可比一般待機減少高達95%的漏電。