2026-10-02 08:43:23 王怡茹 發佈
全球半導體微影設備龍頭艾司摩爾(ASML)持續提升極紫外光(EUV)設備能源效率。ASML指出，隨設備效能及生產力持續提升，依據EUV長期技術路線圖，2026年每片曝光晶圓能耗相較2018年近九年已降低67%，在支援先進製程持續微縮、提升生產力的同時，也同步降低單位晶圓所需能源。

隨先進製程持續演進，EUV已成為晶圓製造大廠推進先進節點的重要微影技術，而伴隨設備功率、生產效率等規格提升，能源效率也成為設備技術發展重點之一。ASML表示，公司已將設備能源效率納入技術發展方向，透過產品設計及技術創新降低產品使用階段的能源消耗。

除了設備端節能，ASML也持續推進自身營運及供應鏈減碳並設定明確的淨零路徑。ASML台灣已於2025年達成全據點100%使用再生電力，全球營運亦於同年達成100%使用再生能源。下一階段將以2030年上游供應鏈達成淨零為目標，並於2040年實現涵蓋自身營運、供應鏈及產品使用階段的整體價值鏈淨零，較聯合國2050 淨零目標提前10年。

ASML副總裁暨台灣區總經理汪佳慧(圖右)表示，公司透過產品設計與技術創新提升設備能源效率，同時將淨零承諾落實至自身營運與供應鏈，希望在支持半導體產業發展之際，也進一步降低整體價值鏈的環境影響。

值得一提的是，ASML於2026年再獲「天下永續公民獎」肯定，為公司第六度獲獎，並同時拿下「天下永續公民獎」及「天下人才永續獎」外商企業組第一名。公司表示，除持續投入設備節能及淨零外，也透過Talent 2030人才永續藍圖推動人才培育與職涯發展。