陸試圖報復美晶片限制 專家點破最大罩門
工商時報 數位編輯 2023.04.06
報導引述行業專家說法指出，製造一台可與荷蘭設備大廠ASML媲美的機器可能需要50億美元，並且需要十年的研究。圖／本報資料照片

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美國政府去年10月公布新一輪對中國晶片的禁令，更拉攏盟友跟進制裁，傳出中國為抗衡美國，將禁止某些稀土磁鐵技術的出口。美媒分析指出，雖然中國試圖報復美國的晶片管制，但極紫外光刻機（EUV）仍是其最大罩門。
根據美聯社報導，中國晶片公司最先進的蝕刻機台只能28奈米的製造技術，與其他競爭對手相比差異很大，像是台積電已能量產3奈米，正在向2奈米邁進，是中國工業精度的十倍。
貝恩策略顧問公司Peter Hanbury表示，要製造最新的晶片，需要極紫外光刻機產品，這是一個非常複雜的工藝。他強調，在美國晶片管制下，中國將無法生產具有競爭力的服務器、個人電腦和智慧手機晶片。
華為去年12月在其網站上的一段視頻中，提到正在研究EUV 技術，但報導引述行業專家說法指出，製造一台可與荷蘭設備大廠ASML（艾司摩爾）媲美的機器可能需要50億美元，並且需要十年的研究。Peter Hanbury說，中國距離極紫外光刻機能夠自給自足的那一天「還很遙遠」。
科技行業顧問Handel Jones則表示，如果中國無法獲得下一代晶片或製造自己的設備，將在2025年或2026年「碰壁」，將開始大幅落後。
（中時新聞網 邱怡萱）