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來源:財經刊物   發佈於 2025-07-16 09:06

台積、英特爾和三星比一比 2奈米良率現況和目標曝

2025/07/15 19:08  
美國KeyBanc資本市場 (KeyBanc Capital Markets)發布一份分析報告,列出台積電、英特爾18A和三星在2奈米製程良率上的數據。(示意圖,路透)
吳孟峰/核稿編輯
〔財經頻道/綜合報導〕美國KeyBanc資本市場 (KeyBanc Capital Markets)發布了一份分析報告,列出台積電、英特爾18A和三星在2奈米製程良率上的數據,分別為65%、55%和40%;台積電後續將攻上75%,英特爾挑戰65%至75%,但三星恐維持在40%。
分析師John Vinh領銜的詳細報告中,英特爾在2奈米製程良率方面的進步引起了廣泛關注。截至2025年中期,台積電的N2製程良率將超過其競爭對手,達到約65%。英特爾的18A良率緊隨其後,為55%,較先前報告的50%顯著提升。三星的SF2製程良率仍維持在40%左右,顯示仍面臨整合和缺陷密度的挑戰。
英特爾的路線圖涵蓋即將推出的Panther Lake處理器,計劃於2025年底在18A上量產。Vinh的預測表明,透過逐步優化製程和減少缺陷,英特爾可以將18A的良率提升到65%至75%的水平。這項改善軌跡將使英特爾的良率領先三星,但略低於台積電屆時N2接近75%的目標。
相較之下,三星的2奈米策略(SF2)尚未展現出顯著的良率提升。 SF2的產能約為40%,遠低於台積電和英特爾的基準水準。報告將此歸因於晶圓級缺陷問題以及EUV圖案化產能提昇放緩。三星的下一代2奈米繼任者路線圖(目前預計於2027年初推出)需要大幅提升良率才能維持競爭力。
台積電在維持代工領先地位的同時,也致力於提升N2的良率。根據公開揭露的消息,製程工程師正在研究多圖案EUV拼接和曝光控制,力求2026年將良率提升至接近75%。

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