peak 發達集團副總裁
來源:財經刊物   發佈於 2015-03-05 17:10

半導體升級 家登帆宣吃補

微影設備大廠艾司摩爾(ASML)推動極紫外光(EUV)技術世代交替快馬加鞭,與晶圓代工龍頭台積電(2330)的合作已有突破性進展,每日曝光晶圓數量超過千片,並宣示將擴大與台灣半導體生產鏈合作,EUV光罩盒(EUV Pod)供應商家登(3680)、設備代工廠帆宣(6196)將直接受惠。
半導體先進製程將在2017年進入10奈米世代,2020年前7奈米將正式進入量產,由於目前採用的浸潤式多重曝光(multi-patterning)微影技術,用來生產10奈米或7奈米晶片的成本太高,所以包括英特爾、台積電(2330)、三星等半導體大廠,均看好EUV將是未來微影技術主流。
ASML發言人Lucas van Grinsven表示,今年是摩爾定律發明的第50年,過去10年,每年都有人說摩爾定律即將失效,但微影技術的不斷演進,如今獲得明顯突破,單日曝光量再次刷新EUV微影系統生產力新紀錄。
ASML著眼於10奈米以下製程挑戰,推出包括EUV微影系統、Yield Star量測系統等在內的全方位微影解決方案。Lucas van Grinsven表示將擴大與台灣半導體生產鏈合作,如Yield Star設備將全數移到台灣組裝製造並出貨給全球主要客戶。
國內設備廠看好ASML將關鍵零組件及模組委外代工,已積極爭取訂單,與ASML合作多年的帆宣及家登成功躋身Yield Star量測系統供應鏈,可望成為主要受惠者,今年訂單能見度已看到年底。尤其家登是全球唯二通過大廠認證的供應商,出貨量可望逐季跳增,有助於大幅提升營收及獲利。

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