2014-11-25 經濟日報 記者／簡永祥
全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾（ASML）昨（24）日宣布，新一代極紫外光（EUV）微影設備已正式量產，並接獲台積電訂單，預計明年出貨，為台積電製程推進至10奈米以下，取得關鍵的門票。
艾司摩爾指出，因應消費市場對於電子產品多功能、小尺寸、低耗電的要求愈來愈嚴苛，半導體產業持續追求電晶體製程微縮，台積電取得跨足10奈米以下先進製程最關鍵的極紫外光（EUV）機台，擺脫半導體摩爾定律可能受到的物理極限限制，成本還有再下降空間，未來將持續用來生產高通、蘋果等大客戶高階晶片。
據了解，台積電購買的EUV量產機台，初期仍投入用於12吋晶圓10奈米製程，未來考慮導入在18吋晶圓上。
台積電10奈米製程已與超過十家客戶合作進行產品設計，包括手機基頻、繪圖晶片、伺服器、遊戲機及可編程邏輯閘陣列（FPGA）等領域，規劃明年底試產，預計2016年底可望量產。
半導體業者表示，一套EUV系統要價9，000萬歐元，被譽為是「半導體設備中的鑽石」，由於造價昂貴，也為進入尖端半導體製程築起高牆。
據了解，除台積電外，三星、英特爾、IBM也是向艾司摩爾下單EUV機台的「大戶」，這些公司將同時取得進入10奈米以下世代製程的門票。這是艾司摩爾投入研發EVU機台的重大突破，該公司指出，未來六年，將是ASML營收躍升的黃金六年。