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來源:財經刊物   發佈於 2014-09-29 19:42

台積電攻穿戴物聯網 建造超低耗電技術平台 2015年試產

為了佈局物聯網、穿戴科技下一世代商機,台積電(2330-TW) (TSM-US)今天宣布,推出業界最完備的超低耗電技術平台,擴展至全新的55奈米(55ULP)、40奈米(40ULP)、28奈米(28ULP)的超低耗電製程,並在2015年試產。
台積電表示,透過此技術平台,提供多項製程技術,大幅提升功耗優勢,以支援物聯網及穿戴式產品,同時也提供完備的設計生態環境,加速客戶產品上市時間。
目前台積電的超低耗電製程組合,除涵蓋既有的0.18微米極低漏電製程(0.18eLL)、90奈米超低漏電製程(90uLL)、16奈米FinFET製程,將更擴展全新的55奈米(55ULP)、40奈米(40ULP)、28奈米(28ULP)的超低耗電製程,以支援運算速度高達1.2GHz之應用。
台積電表示,此項涵蓋0.18微米到16奈米FinFET的超低耗電製程組合,適用於各種具節能效益的智慧型物聯網及穿戴式產品。其中,0.18微米至40奈米的超低耗電製程,具備射頻及嵌入式快閃記憶體功能,能進行系統級整合,以有效縮小尺寸外觀,並藉由無線傳輸技術串連物聯網產品。
相較前一代的低耗電製程,台積電表示,超低耗電製程能夠進一步降低操作電壓達20-30%,以減少動態與靜態功耗,同時大幅延長物聯網及穿戴式產品輕薄短小電池的使用壽命達2至10倍。
台積電總經理暨共同執行長劉德音表示,超低耗電及無所不在的連結功能是物聯網能否成功的關鍵,「我們領先業界成功推出完備的技術平台,有效滿足多樣化物聯網市場的需求與創新。」
台積公司預計2014年與客戶在55奈米超低耗電製程、40奈米超低耗電製程及28奈米超低耗電製程初步達成數項設計合作案,並在2015年進入試產。

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