微影設備大廠艾司摩爾（ASML）著眼於10奈米以下製程挑戰，宣布推出全方位微影解決方案，整合曝光機、量測系統、電腦軟體等，降低客戶整體持有成本。ASML已規畫將量測系統Yield Star設備全數移到台灣生產，而ASML零組件代工合作夥伴帆宣（6196）、家登（3680）成為最大受惠者。
隨著半導體製程開始進入16/14奈米鰭式場效電晶體（FinFET）世代後，製程設備投資成本愈來愈高，而3年後市場進入10奈米世代，半導體廠如何有效降低生產成本就成為競爭關鍵。ASML表示，特別在10奈米以下製程，半導體影像疊對（overlay）只能容許三分之一的誤差，除了曝光機的生產效能外，也需要更精準的量測和校正，來加強成像和影像疊對的效能。
有鑑於此，ASML推出全方位的微影解決方案，進一步強化浸潤式（immersion）微影曝光的效能，協助客戶更快且用更低的整體成本來達到量產。
ASML全方位解決方案最大特色，就是把Yield Star量測系統與曝光機整合。Yield Star量測系統已對應於28奈及20奈米世代，也可滿足14/16奈米以下邏輯IC、20奈米世代記憶體製程的量測需求。過去幾年Yield Star系統雖然在台灣完成模組化，但仍需送回荷蘭總部進行組裝，不過，ASML已決定未來全部系統都會在台灣組裝製造，並出貨給全球主要客戶，由台灣團隊支援全球裝機。
為了有效達到Yield Star的全機組裝生產，ASML表示，將會利用水平整合的概念，將關鍵零組件及模組委外代工。而據了解，國內設備廠積極爭取ASML代工訂單，而與ASML合作多年的帆宣及家登，已經成功擠身Yield Star量測系統供應鏈，可望成為主要受惠者。
此外，ASML也積極推動極紫外光（EUV）微影技術開發，隨著機台開始陸續交機，極紫外光光罩盒（EUV POD）需求愈大，家登是全球唯二通過大廠認證的供應商，仱年EUV光罩傳送盒的接單有機會較去年出現倍數成長。