2026/09/08 17:32
   
儘管中國晶片製造商無法從ASML購買EUV曝光機，但他們仍然可以採購用於製造大多數採用成熟製程產品的舊款DUV曝光機。（路透）
〔財經頻道／綜合報導〕中國廠商競相突破半導體設備出口限制，根據《金融時報》報導，中國晶片製造商長鑫存儲和長江儲存已大量採購深紫外線（DUV）曝光機，以確保未來三年的擴張，這些設備來自荷蘭設備製造巨擘艾斯摩爾（ASML）。
由於美國出口管制限制中國取得極紫外光（EUV）曝光機，DUV曝光機已成為中國晶片製造商目前能取得的最先進設備。隨著美國考慮進一步收緊對中DUV設備出口及維修服務 hi限制，中國加速自研晶片製造工具。
報告也指出，中國深紫外線設備製造商上海宇量昇科技也正依計畫推進，計畫在年底前生產12台深紫外曝光機，以期與艾斯摩爾展開競爭。長鑫存儲和長江儲存此次採購的正是艾斯摩爾的設備。
儘管中國晶片製造商無法從ASML購買EUV曝光機，但他們仍然可以採購用於製造大多數採用成熟製程產品的舊款DUV曝光機。在這方面，中國不僅佔了ASML訂單的很大一部分，而且中國還在自主研發此類設備。
7月下旬，有報告指出中國首批DUV設備已進入量產階段，由國營企業上海宇量昇科技主導。該公司聲稱，年底前將生產5台設備，到2027年底將產量提升至20台。
英國《金融時報》的報導也指出，雖然中國企業也開始生產深紫外曝光機，但其設備不如ASML的設備受製造商歡迎。
近來，中國國內半導體設備供應商的發展受到相當大的關注。瑞銀（UBS）近期發布的一份報告指出，在EUV設備方面，中國企業的技術進度可能比業界的艾司摩爾落後多達10年。不過，中國企業在DUV設備方面的進展則更加超前；此外，一些中國企業正在研究不依賴最新EUV技術來生產先進晶片的方法；並探索其他技術路徑，以突破取得先進EUV設備所面臨的限制。