2026/07/29 18:35  
北京正尋求建立自給自足的半導體產業。（法新社）
〔財經頻道／綜合報導〕中國傳出開始自主生產浸沒式深紫外線（DUV）曝光機的消息，影響全球科技股重挫，市場對中國取得突破的反應與業內專家的懷疑形成了鮮明對比。外媒分析報導指出，中國發展先進半導體業，籠罩在竊取西方公司技術和商業專利的陰影下。
中國國營公司上海愛晟納電子科技集團（Aishengna）的系統預計將供應給中芯國際、華虹半導體和長鑫儲存技術公司等中國晶片製造商，因為北京正尋求建立一個能夠幫助其贏得全球人工智慧競賽的自給自足的半導體產業。
浸沒式深紫外曝光工具生產的半導體元件不如輝達等公司為前緣人工智慧模型驅動的尖端晶片先進。這些晶片需要更先進的製造工藝，即極紫外線（EUV）曝光機技術。經過近二十年的研發，ASML在該技術領域幾乎保持壟斷地位。專家普遍都認為中國的EUV技術目前還遙不可及。
中國推動自主曝光機製造的舉措，與ASML長期以來面臨的工業間諜指控形成鮮明對比。彭博曾報導，ASML在加州成功起訴一名竊取公司商業機密並逃往中國的工程師。該工程師在中國為自己的公司獲得了政府補貼，並基於竊取的技術申請了專利。
根據CNN報導，2023年初，另一名身在中國的前ASML員工從ASML內部的Teamcenter資料庫中竊取數據，該資料庫儲存著ASML曝光系統的技術細節。
近期媒體報導，台積電前副理陳志堅與港商共諜丁小琥，計畫在中國設立半導體材料分析公司，挖角台灣人才，由陳志堅利用職務之便，竊取台積電21項國家核心關鍵技術與營業祕密，打算交予中國。