經濟日報｜2026.07.17 01:41
台積電（2330）昨（16）日於法說會宣布，二度上修2026年資本支出，預估將達600億美元至640億美元，創新高，調幅約7%至14.3%，中間值增幅為10.7%。台積電董事長魏哲家強調，調高資本支出為了支援客戶需求。
台積電規劃，此次上修資本支出，多數用於先進製程投資所需。即便2026年投入如此規模的資本支出以支持未來成長，仍致力於為股東帶來獲利增長，將繼續致力於在年度和季度的基礎上，實現可持續且穩定增長的每股現金股利。
台積電強調，不預期擴產規劃會遇到任何瓶頸，2026年資本支出當中，約70%至80%將用於先進製程技術；約10%將用於特殊製程技術；另外約10%至20%將用於先進封裝、測試、光罩製作及其他項目。
台積電最新財報顯示，今年首季資本支出111億美元，第2季資本支出實際動支157億美元。
台積電強調，較高水準的資本支出始終與公司未來幾年較高的成長機會相關。憑藉強大的技術領導地位和差異化優勢，正處於有利位置，以把握來自5G、AI和高效能運算（HPC）等產業大趨勢的多年結構性需求。
考量來自客戶持續強勁的結構性需求，包含新興的代理式AI市場，台積電因此決定提高2026年資本支出，繼續大舉投資來支持客戶成長。
台積電強調，無論是處於強勁或疲軟的市場周期，該公司始終提前與設備供應商保持密切合作以備妥產能，「就如同我們的客戶提前與我們合作以規劃我們的產能」。
外界關注台積電競爭者導入High-NA EUV進度與台積電的看法，魏哲家在法說會表示，High-NA EUV具備相當優異的效能，但是否正式導入量產，不能只看技術表現，還要同步評估設備成本、技術成熟度，以及曝光區域縮小後對製造流程帶來的影響。
魏哲家說，台積電已將High-NA曝光區域縮小至一半的問題，納入整體製造成本與量產評估。他強調，High-NA本身是一項效能很好的工具，台積電目前仍持續與艾司摩爾（ASML）合作，希望進一步改善設備成本與技術成熟度，使其更符合大規模製造需求。最終仍會依據技術成熟度與成本效益決定是否導入。