【經濟日報╱記者劉芳妙報導
國內雷射微投影技術有重大突破。工研院於 (5)日發表最新的微型雷射投影技術，其獨特的四項光學掃瞄補償技術可在投影亮度、銳利度、均勻度、色域上做提升，投影畫面平整不扭曲，同時也提高系統相容性，使廠商在選擇光機元件時有更大的彈性，對業界是十分受用的技術突破。
此外，以其技術所開發的模組體積已可縮小達8c.c.左右，未來更可縮小到3 c.c.；將提供裝載於智慧型手機、數位相機、PDA等3C消費性電子產品上，提供高準度的雷射行動隨身投影功能。
工研院南分院目前所開發的微型雷射投影技術，具備四項獨特的光學掃瞄補償技術，為目前雷射投影技術所遇到的問題，提供了最佳的解決方案。
其「亮度失真補償技術」透過由工研院獨家開發的亮度權重演算法，有效解決雷射掃描畫面中間與邊緣運動速度不一致所導致的整體亮度不均，補強後可達到92%以上的均勻效果。
「光機失真補償技術」可針對投影成像角度造成的畫面扭曲和失真做調整，提供比例最真實的投影相貌。「同步失真補償技術」將雷射與掃瞄元件訊號之同步能力提昇至10ns，以針對MEMS面鏡掃描角度進行即時監測，解決雷射與MEMS面鏡交互動作時所產生的影像模糊問題。
「光機錯位補償技術」以韌體方式增加紅、綠、藍三原色的對位性，提升影像銳利度讓成像色澤更鮮明。這四大掃瞄補償技術同時也提高整合控制系統對光機元件性能的容忍度，大幅放寬可選擇的光機元件規格，增加模組廠商選擇供應商的彈性，更進一步有助於降低生產成本。