東森財經
2025年5月28日 週三 上午10:05

台積電（2330）對荷蘭設備大廠艾司摩爾（ASML）最新一代高數值孔徑（High-NA）極紫外光（EUV）微影設備的應用仍持保留態度，儘管該機台具備強大效能，但單台造價高達4億美元，讓台積電望而卻步，因此暫無計畫在A14及後續製程中使用。

據《路透社》（Reuters）報導，台積電技術開發資深副總經理張曉強昨（27）日表示，公司目前尚未找到「非用不可」的理由導入高NA機台。他指出，A14製程即便不使用高NA，仍能實現非常顯著的技術提升。「我們的技術團隊持續努力延長現有低NA EUV設備的壽命，並在現有架構下取得微縮的效益。」

張曉強也坦言：「只要我們繼續找到替代方案，就沒有必要用這台昂貴的設備。」事實上，早在去年，張曉強就曾表示，他喜歡High-NA EUV這項技術，但他也強調，「不喜歡這個價格。」

相較之下，競爭對手英特爾（Intel）已規劃在14A節點使用ASML高NA機器，期望藉此重振晶圓代工業務，挑戰台積電地位。根據ASML執行長福凱特（Christophe Fouquet）日前在法說會上說法，預期客戶將於2026~2027年進行高NA的量產準備測試，屆時業界才可能考慮在最先進製程全面導入。
ASML目前已向三家客戶交付5台高NA機器，包括英特爾、台積電與三星，這款重達180公噸、體積如雙層巴士般的設備，是全球最昂貴的半導體製造機台之一。

（封面圖／翻攝自ASML官網）