英特爾前技術長兼執行長季辛格現擔任xLight的執行董事長，這是一家開發自由電子雷射技術作為極紫外線曝光系統光源的新創公司。（路透）
吳孟峰／核稿編輯
〔財經頻道／綜合報導〕英特爾前技術長兼執行長季辛格（Pat Gelsinger） 現擔任xLight的執行董事長，這是一家開發自由電子雷 （FEL）技術作為極紫外線（EUV）曝光系統光源的新創公司。
季辛格在lixnkedIn中寫道：作為我在Playground Global（深度科技創投公司）的新職位的一部分，我已加 xLight並擔任董事會執行主席。
EUV曝光機是一種用於半導體製造的先進技術，使用波長為13.5nm的EUV光在矽晶片上創建極小的電路圖案，高NA EUV的分辨率為8nm，低NA EUV的分辨率為13nm。目前，只有ASML可以製造EUV微影系統，而這些系統採用複雜的方式產生波長為13.5nm 的光。製造波長極短的光，從而生產出分辨率達到8nm~13.5nm的晶片的方法不只一種。其中之一是使用粒子加速器作為雷射產生等離子體 （LPP） 光源。
根據季辛格貼文寫道，xLight已經創建了一個LPP來源，其功率是當今最先進系統的4倍。他聲稱，xLight的技術可將每片晶圓的成本降低約50%，並將資本和營運費用降低3倍，這是製造效率的重大飛躍。xLight聲稱它可以在2028年之前生產出這種光源，同時保持與現有工具的兼容性。
值得注意的是，xLight的目標並不是取代ASML的EUV微影工具，而是生產一種LPP來源，到2028年將連接到ASML掃描器並運行晶圓。這可能意味著xLight 的LPP來源將與現有的ASML工具相容，但目前尚不清楚它是否與下一代 High-NA EUV工具相容。