電子工程專輯20101011
市場研究機構The Information Network表示，對光罩(photomask)產業來說，目前有好消息也有壞消息； 2010 上半年市場熱絡，但下半年預期可能會變冷…那麼最後的結果呢？該產業今年度的成長率恐怕是零。
「2010年的半導體光罩市場將會在歷史上留下一個紀錄，也就是在上半年經歷25%的成長之後，下半年恐怕面臨25%的衰退，因此我們預期該市場全年度成長率是零。」The Information Network總裁Robert Castellano表示。根據The Information Network的估計，2010年批發式光罩(merchant photomask)市場營收約為16億美元，專有光罩(captive photomask)市場營收則約9億美元。
「大多數的先進半導體元件設計是在2009年完成，而光罩組完成時間則是在2010上半年；由於宏觀經濟前景不明，我們看不到2011年半導體資本支出有太多成長機會。」Castellano補充指出，但好消息是，採用28奈米節點製程技術的晶片設計正在進行中，這部份的業務可望為2011年的半導體光罩市場帶來成長動力。
65奈米節點製成的光罩組是由40層光罩層組成，其中有5層是臨界層(critical，採用45奈米設計規則)，15層是次臨界層(subcritical，採用90奈米設計規則)；65奈米光罩組的成本是90奈米的1.8倍，45奈米光罩組的成本則可達65奈米的2.2倍。對高價格光罩的高需求量，是2010上半年光罩市場營收突飛猛進的主要原因。
(參考原文： Zero growth seen for mask business)