2010-03-26 工商時報 【記者涂志豪／台北報導】
在台積電（2330）主導及推動下，共通性製程設計套件資料庫聯盟（Interoperable PDK Libraries Alliance，IPL）推出支援共通性設計套件（iPDK）的IPL 1.0平台，帶動電子設計自動化工具（EDA）市場走向開放型標準架構。國內EDA大廠思源科技（2473）身為IPL創始會員，隨著今年半導體廠擴大資本支出，及台積電客戶群開始導入iPDK及IPL 1.0平台，思源將可受惠於EDA授權數增加。
晶片製程不斷微縮，設計複雜度愈高，也讓晶片設計成本增加及時間拉長，過去專有客製化設計資料庫中的製程設計套件（PDK），限制了許多設計的再使用和可移植性，並導致整個生態系統中所有廠商都必須付出更高的開發、維護和支援成本，尤其是為許多不同客戶代工不同晶片的台積電，得面對更多的問題及付出更高的PDK設計成本。
所以，台積電近兩年來積極推動iPDK平台，並與新思（Synopsys）、明導（Mentor）、思源等EDA業者合作，在去年第3季推出基於OpenAccess數據庫和數據模型的65奈米iPDK。也因此，台積電跨越了多個基於OpenAccess的EDA設計環境，完成了統一的iPDK套件，因而不再需要多個專有PDK，而且在不同的設計工具組之間，也能全面再使用所有的設計資料。
此外，台積電多年前加入IPL聯盟並與EDA業者合作，經過多次的整合及驗證後，終於在日前推出IPL 1.0平台。該平台同樣基於OpenAccess數據庫和數據模型，與台積電的iPDK也具共通性，所以對EDA業者來說，能夠縮短設計週期、提高設計再使用性、並提升設計的投資報酬率。
由於今年半導體市況大好，IPL 1.0及台積電自行推出的iPDK，已可涵蓋支援90奈米及65奈米兩個主流製程世代技術。隨著半導體廠今年大幅提升資本支出及擴大徵才，晶片設計案及產量明顯較去年放大，包括思源在內的EDA廠可直接受惠於EDA授權數增加，推升營收及獲利成長。