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晶圓代工、DRAM廠買微影設備
2009-07-17 工商時報 【涂志豪／台北報導】
由於台積電（2330）與聯電（2303）等晶圓代工廠的45/40奈米訂單強勁，但雙重曝影（double patterning）浸潤式微影（immersion）產能不足，所以已擴大下單採購相關設備。另外，DRAM廠下半年將進入50/40奈米世代的微縮競賽，對浸潤式微影設備需求大增，除了韓國及日本業者開始採購外，國內美光陣營的南亞科（2408）及華亞科（3474）也已下單。
隨著40奈米良率問題陸續獲得解決，台積電及聯電近期在45/40奈米的接單上已有斬獲，如台積電已獲得英偉達（NVIDIA）、超微、巨積（LSI）、富士通、耐特邏輯（NetLogic）、阿爾特拉（Altera）等客戶訂單，聯電也開始為賽靈思（Xilinx）代工最新Virtex-6可程式邏輯元件（FPGA）訂單。
由於45/40奈米製程的主流是採用雙重曝影的浸潤式微影技術，但晶圓雙雄自去年下半年至今年中旬，為了因應金融海嘯嚴重衝擊，均凍結資本支出，直到今年第二季後，才陸續開始增加設備採購。但因45/40奈米訂單急速湧入，台積電及聯電已向微影設備大廠荷商艾司摩爾（ASML）下單採購新設備。
艾司摩爾昨日公布第二季財報，營收約達2.77億歐元，但仍虧損1.04歐元，不過艾司摩爾對下半年景氣看法轉趨樂觀，第三季營收預計可達4.5億歐元，季增率達62％，並獲得15台微影設備新單。
艾司摩爾在法說會中表示，晶圓代工廠的45/40奈米訂單強勁，為了提高產能，下半年對微影設備的需求也轉強，公司對半導體景氣復甦更具信心。另外，艾司摩爾也看好記憶體廠明年將大量轉進浸潤式製程，微影設備市場將有強勁復甦力道。
由於DRAM價格一直沒辦法回到成本以上，全球DRAM廠已開始配合英特爾的處理器規格，轉進價格較高且可獲利的DDR3產品，並積極進行50/40奈米製程微縮，而NAND供應商如東芝、三星等，也開始著手進行30/20奈米世代的製程研發。而以國內來說，南亞科及華亞科在解決了募資問題、順利取得資金後，已經與合作對象美光，共同進行50奈米微縮，並採購了數台浸潤式微影設備。