財訊新聞 　 2025/05/23 12:09

【財訊快報／陳孟朔】半導體製程技術邁入全新世代！荷蘭光刻巨頭艾司摩爾(ASML)最新世代High-NA EUV(極紫外線)光刻機正式啟動交貨，單台造價高達3.7億美元、全球目前僅生產5台，英特爾(Intel)率先於2023年底搶下首台。

根據最新報導，台積電於2024年第四季接收首台ASML的High-NA EUV光刻機，該設備安裝於新竹的研發中心，作為先進製程技術開發的一部分。然而，由於設備安裝與測試需時數月，實際投入生產可能延至2025年期間。


至於三星電子(Samsung），其首台High-NA EUV光刻機預計將於2025年初交付，並於第二季完成安裝。由於設備的複雜性和安裝測試所需時間，實際投入生產亦可能延至2025年下半年。

全球晶圓代工龍頭與記憶體大廠積極卡位，力拚在先進製程與AI運算晶片戰中搶得先機。High-NA EUV是目前最先進的晶圓曝光設備，具備比現行EUV更高的數值孔徑(NA)，解析度與精準度大幅提升，象徵晶圓微縮技術再下一城。ASML預計今年僅能生產5至6台，英特爾已預訂整年度產能。根據業界推估，英特爾將率先使用該設備進行20A以下製程驗證，積極重返高階製程競局。

法人分析指出，High-NA EUV不僅是設備革新，更是AI與高速運算晶片推進的戰略關鍵技術。由於微縮空間日益有限，先進封裝與高解析光刻雙軌並行，誰先掌握High-NA EUV，誰就有望在製程競賽中領跑。

儘管ASML機台交期長、造價昂貴，但對資本密集的晶圓龍頭廠而言，這項投資被視為必要戰略資源。從交貨順序看，英特爾再次展現與ASML的深度合作關係，而台積電與三星則代表亞系陣營積極應對AI晶片需求暴增所帶來的製程挑戰。