台積電積極布局先進製程，明年度資本支出將上看百億美元，而英特爾則在分析師會議上釋出，明年度資本支出規模將落在105億美元的訊息。
這代表半導體雙雄2015年資本支出將在伯仲之間，出現史上最近的距離，甚至台積電明年資本支出有望首度超越英特爾。無論前述雙雄最後是何者的資本支出較高，均有利於上游設備廠的拉貨需求。
台積電正與兩隻「大猩猩」-英特爾和三星展開先進製程競賽，今年的資本支出約為96億美元，仍落後於三星的115億美元和英特爾的110億美元，年度資本支出規模排名第三。
台積電目前正擴建南科Fab14第6期、第7期、第8期等三座12吋廠，以衝刺16奈米鰭式場效電晶體（FinFET）製程產能。雖然台積電尚未公布明年度的資本支出規畫，但台積電財務長何麗梅已於前一次的法說會上預告，將會落在100億美元出頭。
英特爾釋出明年度的公司預算規畫，其中研發與併購預算將達200億美元（加減4億美元），資本支出則為105億美元（加減5億美元），略低於今年度的110億美元。
相對於台積電明年的資本支出將持續攀升，可望首度超越100億美元大關，英特爾則將較今年小幅減少，在此消彼漲下，使得半導體雙雄明年資本支出規模，不排除會出現「黃金交叉」的情形，台積電有機會首度超越英特爾；下一個關注焦點，將是三星接下來的資本支出規畫。
法人預期，在台積電、英特爾等國際半導體大咖相繼規畫百億美元資本支出的情況下，將有利於上游漢微科、家登、辛耘、盟立等設備廠的後續營運動能。